Hoch-reiner Sauerstoff

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Hoch-reiner Sauerstoff
Informationen
Hoch-reiner Sauerstoff ist ein lebenswichtiges Industrie- und Spezialgas, das sich durch einen äußerst geringen Anteil an Verunreinigungen auszeichnet, um den strengen Anforderungen moderner Fertigung, Elektronik und wissenschaftlicher Forschung gerecht zu werden. Im Gegensatz zu herkömmlichem Industriesauerstoff durchläuft hochreiner Sauerstoff zusätzliche Reinigungsprozesse, um Spuren von Verunreinigungen wie Feuchtigkeit, Kohlenwasserstoffe, Stickstoff und Edelgase zu entfernen. Diese außergewöhnliche Reinheit ist für Anwendungen unerlässlich, bei denen selbst kleinste Verunreinigungen die Produktqualität, Prozesseffizienz oder experimentelle Integrität beeinträchtigen können.
Produktklassifizierung
Standardgas
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Beschreibung

Produktübersicht

 

Hoch-reiner Sauerstoff ist ein lebenswichtiges Industrie- und Spezialgas, das sich durch einen äußerst geringen Anteil an Verunreinigungen auszeichnet, um den strengen Anforderungen moderner Fertigung, Elektronik und wissenschaftlicher Forschung gerecht zu werden. Im Gegensatz zu herkömmlichem Industriesauerstoff durchläuft hochreiner Sauerstoff zusätzliche Reinigungsprozesse, um Spuren von Verunreinigungen wie Feuchtigkeit, Kohlenwasserstoffe, Stickstoff und Edelgase zu entfernen. Diese außergewöhnliche Reinheit ist für Anwendungen unerlässlich, bei denen selbst kleinste Verunreinigungen die Produktqualität, Prozesseffizienz oder experimentelle Integrität beeinträchtigen können. Die zuverlässige Versorgung mit hochreinem Sauerstoff ist die Grundlage für Innovationen in Hochtechnologiesektoren und im kritischen Gesundheitswesen.

 

Grundlegende Informationen

 

CAS-Nr. 7782-44-7
UN-Nr. UN1072 (Sauerstoff, komprimiert) oder UN1073 (Sauerstoff, gekühlte Flüssigkeit)
Molekulare Formel O₂
Gefahrenklassifizierung 2.2 (Nicht-brennbares, oxidierendes Gas)

 

Schlüsselattribute und Parameter

 

Reinheit Erhältlich in Qualitäten wie 99,5 % (Klasse 3,0), 99,9 % (Klasse 4,0), 99,995 % (Klasse 4,5) und bis zu 99,9999 % (Klasse 6,0) und darüber hinaus für bestimmte Anwendungen.
Wichtige Spezifikationen für Verunreinigungen

Feuchtigkeit (H₂O): So niedrig wie<0.5 ppmv (for 6.0 grade)

Gesamtkohlenwasserstoffe (THC): So niedrig wie<0.1 ppmv (as CH₄)

Stickstoff (N₂):<5 ppmv

Argon (Ar):<1 ppmv

Kohlendioxid (CO₂):<0.1 ppmv

Physischer Zustand Farbloses, geruchloses, geschmackloses Gas; wird auch als kryogene Flüssigkeit (LOX) zur Massenlieferung geliefert.
Lieferung & Verpackung Erhältlich in Hochdruckflaschen, Flaschenbündeln, Rohranhängern oder als Massenflüssigkeit in Kryotanks.

 

Funktionen und Vorteile

 

Ultra-Niedriger Schadstoffgehalt

Eine strenge Reinigung sorgt für ein Minimum an Spurengasen, Feuchtigkeit und Partikeln und verhindert so eine Kontamination in sensiblen Prozessen.

Verbesserte Prozesskontrolle und Ausbeute

Gleichbleibender, hochreiner Sauerstoff ermöglicht präzise Oxidations-, Verbrennungs- oder Synthesereaktionen, was zu einer besseren Produktqualität, höheren Ausbeuten und weniger Fehlern bei der Halbleiter- und Glasherstellung führt.

Entscheidend für fortschrittliche Technologien

Unverzichtbar für Prozesse, bei denen die Standard-Sauerstoffreinheit nicht ausreicht, wie z. B. die Synthese von Glasfaser-Preforms, die Herstellung hocheffizienter Solarzellen und die fortgeschrittene Metallurgie.

Überlegene Sicherheit und Konsistenz

Erfüllt oder übertrifft internationale Standards (z. B. ISO, SEMI) und gewährleistet so Prozesszuverlässigkeit und Sicherheit, insbesondere in Oxidationsumgebungen.

 

Funktionelle Eigenschaften

 

Hoch-reiner Sauerstoff fungiert als ultra-sauberes Oxidationsmittel, Reaktant oder Prozessgas. In der Halbleiterfertigung wird es bei der thermischen Oxidation zum Aufwachsen gleichmäßiger Siliziumdioxidschichten sowie bei der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) und beim Plasmaätzen verwendet. In diesen Rollen können Verunreinigungen Kristalldefekte erzeugen oder die Reaktionskinetik verändern. Als Atemgas in speziellen medizinischen und lebenserhaltenden Anwendungen ist seine Reinheit für die Patientensicherheit von entscheidender Bedeutung. Es wird durch kryogene Luftzerlegung hergestellt, gefolgt von zusätzlichen Reinigungsschritten wie katalytischer Oxidation von Kohlenwasserstoffen, Adsorption und Filtration.

 

Hauptanwendungsfelder

 

Halbleiter- und Elektronikfertigung

Thermische Oxidation, chemische Gasphasenabscheidung (CVD), Plasmaätzen und Veraschung bei der Chipherstellung. Entscheidend für die DRAM-, Logikgeräte- und MEMS-Produktion.

Glasfaser und Spezialglas

Synthese von hochreinen Quarzglas-Vorformen für optische Fasern und Produktion von hochwertigem Displayglas (z. B. für LCD/OLED-Panels).

Pharmazeutik und Biotechnologie

Fermentationsprozesse, Zellkulturen und als Rohstoff in der Synthese unter strengen Bedingungen der Good Manufacturing Practice (GMP).

Fortgeschrittene Materialien und Forschung

Herstellung von Supraleitern, Präzisionsschweißen reaktiver Metalle (z. B. Titan) und Verwendung in Analyseinstrumenten und der Forschung in kontrollierter Atmosphäre.

Spezialisierte Gesundheitsversorgung

Laserchirurgie, Überdruckmedizin und fortschrittliche Lebenserhaltungssysteme, bei denen die Gasreinheit von größter Bedeutung ist.

 

Kundenkooperationsfall

 

Ein führender Hersteller fortschrittlicher Photovoltaikzellen für Raumfahrtanwendungen stand vor einer entscheidenden Herausforderung. Ihr Prozess zur Abscheidung einer wichtigen transparenten leitfähigen Oxidschicht erforderte eine streng kontrollierte Oxidationsumgebung. Spuren von Feuchtigkeit und Kohlenwasserstoffverunreinigungen in der Standard-Sauerstoffversorgung führten zu Unstimmigkeiten in der Schichtdichte und den optischen Eigenschaften und verringerten die Zelleffizienz. Wir haben mit ihnen zusammengearbeitet, um eine spezielle Versorgung mit hochreinem Sauerstoff der Güteklasse 5,5 (99,9995 % rein, mit THC) zu implementieren<0.1 ppm and H₂O <0.5 ppm). We installed a point-of-use purifier and a closed-loop monitoring system to guarantee purity at the tool inlet. The switch to our high purity oxygen resulted in a dramatic improvement. The deposited films showed 40% fewer defects and a 15% increase in consistent light transmittance. This enhancement directly translated to a measurable increase in the power conversion efficiency and long-term reliability of their solar cells, securing a crucial contract for a major satellite program. This success underscored how our high purity oxygen was not just a utility but an enabling material for cutting-edge performance.

 

 

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