Wasserstoff-Standardgas

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Informationen
Hochreiner Wasserstoff, Wasserstoff-Standardgas, ist ein kritisches Industriegas, das sich durch einen äußerst geringen Grad an Verunreinigungen auszeichnet und speziell auf Anwendungen zugeschnitten ist, bei denen eine Verunreinigung durch andere Gase die Leistung oder Sicherheit beeinträchtigen würde. Hochreiner Wasserstoff wird hauptsächlich durch Dampfreformierung von Methan oder Elektrolyse gewonnen und nach strengen Standards raffiniert. Er ist für die Elektronikfertigung, die chemische Synthese und neue Technologien für saubere Energie unerlässlich.
Produktklassifizierung
Standardgas
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Beschreibung

Produktübersicht

 

Hochreiner Wasserstoff, Wasserstoff-Standardgas, ist ein kritisches Industriegas, das sich durch einen äußerst geringen Grad an Verunreinigungen auszeichnet und speziell auf Anwendungen zugeschnitten ist, bei denen eine Verunreinigung durch andere Gase die Leistung oder Sicherheit beeinträchtigen würde. Hochreiner Wasserstoff wird hauptsächlich durch Dampfreformierung von Methan oder Elektrolyse gewonnen und nach strengen Standards raffiniert. Er ist für die Elektronikfertigung, die chemische Synthese und neue Technologien für saubere Energie unerlässlich. Die zuverlässige Versorgung mit hochreinem Wasserstoff sorgt für optimale Effizienz und Sicherheit in Prozessen von der Halbleiterfertigung bis zum Brennstoffzellenbetrieb.

 

Grundlegende Informationen

 

CAS-Nr. 1333-74-0
UN-Nr. UN1049 (Wasserstoff, komprimiert) oder UN1966 (Wasserstoff, gekühlte Flüssigkeit)
Molekulare Formel H₂
Gefahrenklassifizierung 2.1 (Brennbares Gas)

 

Schlüsselattribute und Parameter

 

Reinheitsgrade Erhältlich in den Qualitäten 99,99 % (4,0), 99,999 % (5,0), 99,9995 % (5,5) und bis zu 99,9999 % (6,0) und höher für besonders sensible Anwendungen.
Wichtige Verunreinigungsspezifikationen (für 99,999 %-Qualität)

Sauerstoff (O₂): < 1 ppmv

Feuchtigkeit (H₂O): < 2 ppmv

Gesamtkohlenwasserstoffe (THC): < 0,5 ppmv (als CH₄)

Stickstoff (N₂): < 3 ppmv

Kohlenmonoxid (CO): < 0,1 ppmv

Kohlendioxid (CO₂): < 0,1 ppmv

Physischer Zustand Farbloses, geruchloses, leicht entzündliches Gas; wird auch als kryogene Flüssigkeit zur Massenlieferung geliefert.
Lieferformen Hochdruckzylinder, Rohranhänger oder Vor-Ort-Erzeugungssysteme mit integrierter Reinigung.

 

Funktionen und Vorteile

 

Extrem-Geringe Kontamination

Unverzichtbar für Prozesse, bei denen Spuren von Sauerstoff, Feuchtigkeit oder Kohlenwasserstoffen zu Defekten, Oxidation oder Katalysatorvergiftung führen können, um eine hohe Ausbeute und Produktqualität zu gewährleisten.

Vielseitige reduzierende Atmosphäre

Bietet eine wirksame reduzierende Umgebung in der Metallurgie und Materialverarbeitung, verhindert Oxidation und ermöglicht präzise thermische Behandlungen.

Entscheidend für Energie und Elektronik

Dient sowohl als grundlegender Rohstoff in der Elektronikfertigung als auch als sauberer Energieträger für Brennstoffzellen und unterstützt den technologischen Fortschritt und die Dekarbonisierung.

Konsistente und zuverlässige Versorgung

Garantierte Reinheit und stabile Lieferketten sind für den kontinuierlichen Betrieb in Halbleiterfabriken, Chemiefabriken und Forschungseinrichtungen von entscheidender Bedeutung.

 

Funktionelle Eigenschaften

 

Wasserstoff-Standardgas fungiert hauptsächlich als Reduktionsmittel, Trägergas oder Kraftstoff. In der Halbleiterfertigung wird es beim Glühen, beim epitaktischen Wachstum und als Formiergas (gemischt mit Stickstoff) zur Verhinderung von Oxidation verwendet. Seine hohe Wärmeleitfähigkeit und geringe Dichte machen es zu einem effizienten Kühlmedium in großen Generatoren. In Brennstoffzellen verbindet es sich elektrochemisch mit Sauerstoff zu Strom und Wasser. Bei chemischen Prozessen ist es an Hydrierungs-, Hydrocracking- und Entschwefelungsreaktionen beteiligt. Um die Reinheit vom Erzeugungs- bis zum Verwendungsort aufrechtzuerhalten, werden spezielle Lagerungs-, Handhabungs- und Reinigungstechnologien eingesetzt.

 

Hauptanwendungsfelder

 

Halbleiter und Elektronik

Wird bei der Waferherstellung für reduzierende Atmosphären, Epitaxie und als Trägergas bei chemischen Gasphasenabscheidungs- (CVD) und Ätzprozessen verwendet.

Chemische und petrochemische Industrie

Schlüsselreaktant beim Hydrocracken, der Hydrodesulfurierung und der Herstellung von Ammoniak, Methanol und anderen Massenchemikalien.

Metallurgie und Wärmebehandlung

Bietet Schutzatmosphären zum Glühen, Sintern und Hartlöten von Metallen, um Oxidation und Entkohlung zu verhindern.

Brennstoffzellen und saubere Energie

Reiner Brennstoff für Protonenaustauschmembran-Brennstoffzellen (PEM) in stationären Energie-, Transport- und tragbaren Geräten.

Analytische und Laboranwendungen

Trägergas für die Gaschromatographie (GC) und Brennstoff für Flammenionisationsdetektoren (FID).

Herstellung von Floatglas

Erzeugt eine reduzierende Atmosphäre, um eine Oxidation des Zinnbades im Glasherstellungsprozess zu verhindern.

 

Kundenkooperationsfall

 

Ein führender Hersteller von fortschrittlichen Halbleiterchips für 5G-Geräte stieß während eines kritischen Temperschritts auf anhaltende Inkonsistenzen der Oxidschicht, die sich auf die Leistung und Ausbeute des Transistors auswirkten. Sie vermuteten, dass Spuren von Sauerstoff in ihrem Prozessgas die Ursache waren. Wir haben uns zusammengetan, um eine dedizierte Versorgung mit 99,9999 % hochreinem Wasserstoff bereitzustellen, der mit einem Point-{4}}of-Reiniger integriert ist, um einen Sauerstoffgehalt unter 10 ppb am Geräteeinlass zu gewährleisten. Darüber hinaus haben wir ein Echtzeit-Feuchtigkeits- und Sauerstoffüberwachungssystem implementiert. Die ultra-trockene, sauerstofffreie Umgebung, die durch unseren hochreinen Wasserstoff erzeugt wird, beseitigte das Oxidationsproblem, was zu einer 30 %igen Verbesserung der Waferausbeute für die betroffene Prozessschicht und einer verbesserten Gerätezuverlässigkeit führte. Diese Zusammenarbeit löste nicht nur einen kritischen Produktionsengpass, sondern etablierte auch einen neuen Standard für die Gasreinheit in ihrer Fabrik und demonstrierte, dass Wasserstoff-Standardgas eine direkte Voraussetzung für die hochmoderne Halbleiterfertigung ist.

 

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